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    • 专利摘要:
    一種實體儲存媒體，以計算機程式碼加以編碼，可由計算機讀取，當該計算機程式碼被一處理器所執行時，該處理器進行一設計方法，該設計方法包括設計一半導體元件佈局並將該半導體元件佈局顯示於一圖形化使用者介面；當該半導體元件佈局顯示於該圖形化使用者介面時，透過與該圖形化使用者介面互動以讀取設計規則；以及透過與該圖形化使用者介面互動以讀取具有複數個設計圖樣的一資料庫，並且將至少一該等設計圖樣直接匯入該半導體元件佈局。
    公开号:TW201317819A
    申请号:TW101119479
    申请日:2012-05-31
    公开日:2013-05-01
    发明作者:Chin-An Chen；Pei-Tzu Wu；Tsung-Chieh Tsai；Juing-Yi Wu；Jyh-Kang Ting
    申请人:Taiwan Semiconductor Mfg；
    IPC主号:G06F30-00
    专利说明:
    計算機可讀取的儲存媒體、設計半導體元件的方法以及電子設計自動化系統
    本發明係有關於設計半導體元件佈局的方法、系統，以及軟體，特別是關於以電子設計自動化系統設計半導體元件的方法、系統，以及軟體。
    積體電路設計可以透過各種電子設計自動化系統(Electronic Design Automation System,EDA System)達成，電子設計自動化系統允許電路設計者建立並數位化用來形成積體電路的圖樣以及形狀。積體電路與其他半導體元件包括數個交疊的材料層，其中每個層，亦即每個元件層，包括一相關的佈局(layout)，必須透過設計者產生，以使與其他元件層相配合，特別是需配合位於其上一層或下一層的圖樣特徵。積體電路設計必須遵守數種不同的設計規則，包括元件層的設計規則，以及元件層與上一層或下一層元件層之間的設計規則。
    設計規則可以為客戶所建立，或是由光罩工廠所制定，以規範光罩工廠在製作光罩時的容忍度。設計規則亦可由元件製程工廠發佈，根據元件製程工廠的製程能力而制定。各種設計規則之間必須相互符合，使根據其所產生出來的光罩可以成功的製作積體電路。
    積體電路的設計規則數量日益增加，且該些設計規則的複雜度不斷提昇，使得製程容許度(process window)越來越差，並且於先進製程過程中產生更多與佈局相關的效應。整體設計規則的整合規劃會是電路設計者的一大挑戰，但是根據傳統實務，在開始設計佈局之前必須要先完成設計規則的的整合規劃。於目前的實際應用中，設計者首先參照包括大量且複雜的內容的設計規則手冊，接著向各工廠詢問設計規則的意義，接著才開始設計佈局。完成一初始佈局後，進行設計規則檢驗，電路設計者需再次重複參照設計規則手冊以及詢問各工廠關於設計規則的問題。一般來說設計的過程需要經過數次反覆進行。
    因此，設計積體電路的佈局是相當費時，昂貴且缺乏效率的。特別是因應現今積體電路應用的大量需求，亟需針對上述限制與缺點加以改善。
    本發明揭露一種系統，一種方法，以及一種計算機可讀的儲存媒體，用於積體電路以及其他半導體元件的設計。此設計係透過一圖形化使用者介面(Graphical User Interface，圖形化使用者介面)達成，或設計佈局係顯示於一圖形化使用者介面，可以透過與圖形化使用者介面的互動獲取設計規則。設計規則係直接連結至內容符合設計規則的一圖樣資料庫，而圖樣資料庫中的各種圖形可以用以形成或修改設計佈局。圖樣資料庫可以藉由與與圖形化使用者介面的互動直接讀取。
    本發明揭示了提供一種儲存媒體，可以為計算機讀取，以計算機程式碼編碼，當計算機程式被處理器所執行時，處理器進行一設計方法，用來設計半導體元件例如積體電路的佈局。該設計方法包括先設計一半導體元件的佈局，並將該佈局顯示於一圖形化使用者介面，更透過與圖形化使用者介面互動讀取訂製的設計規則，其中該些設計規則係關聯於至少一工廠，透過與圖形化使用者介面互動讀取設計圖樣的資料庫，其中該些設計規則係關聯於至少一工廠，以及將至少一設計圖樣直接匯入顯示於圖形化使用者介面的半導體元件佈局。
    設計規則可以被直接連結至設計圖樣的資料庫。透過與圖形化使用者介面的互動，設計規則可以連同半導體元件佈局一起被顯示於圖形化使用者介面上。該些設計規則係為相關光罩工廠及/或半導體元件製程工廠所制定。資料庫中的設計圖樣可被擷取並直接匯入半導體元件佈局。此擷取並直接匯入的動作可協助電路設計者建立半導體元件佈局，或是可以於設計規則檢驗時，初步的半導體元件佈局建立完成時進行，軟體允許使用者讀取設計規則，以檢驗所建立的半導體元件佈局並讀取資料庫並自資料庫匯入圖樣至半導體元件佈局。訂製的設計規則可由工廠提供給一制定者，以制定出經過工廠認證許可的設計規則與設計圖樣。設計者可以在利用圖形化使用者介面設計半導體元件佈局之前，之中，或之後，讀取並使用該些設計規則以及設計資料庫。
    本發明亦揭露一方法，用以設計半導體元件。該方法包括設計半導體元件的一佈局，並透過電子設計自動化系統將該佈局顯示於一圖形化使用者介面上。該方法更包括當佈局被顯示時，透過與圖形化使用者介面互動以讀取工廠所制定的設計規則；當佈局被顯示時，透過與圖形化使用者介面互動以讀取一包括設計圖樣的資料庫，並於資料庫選擇至少一所需的設計圖樣，以及透過與圖形化使用者介面互動將該至少一所需的設計圖樣自資料庫匯入至佈局。
    本發明更揭示一種電子設計自動化系統。此系統包括一處理器，一圖形化使用者介面，以及一儲存媒體，可被計算機所讀取。該儲存媒體係以計算機程式碼編碼，當計算機程式碼被該處理器所執行時，該處理器允許使用者使用電子設計自動化系統以設計一半導體元件的佈局。該設計可以透過一種進行一半導體元件佈局的方法；透過與圖形化使用者介面互動讀取制定的設計規則，例如可以是經過工廠認證的設計規則；透過與圖形化使用者介面互動讀取具有設計圖樣的資料庫，該些設計圖樣係連結至該工廠；並且透過與圖形化使用者介面互動將至少一該些設計圖樣匯入該半導體元件佈局。
    其中，與圖形化使用者介面互動可以透過未來研發的新技術以及現有的技術加以實現，例如控制游標在圖形化使用者介面上所顯示的佈局的位置，將游標定位在該佈局的一圖樣上並以滑鼠或其他適合的裝置點選該圖樣，即可將設計規則及/或圖樣資料庫讀取並顯示於顯示器上的圖形化使用者介面。圖樣資料庫中的設計圖樣可以藉由點擊、拖曳至特定位置，或是複製貼上的方式將之加入設計佈局中。亦可以使用其他的圖形化使用者介面操作方法。
    第1圖為本發明所揭露之一實施例整體示意圖。一電子設計自動化系統工具可包括已編程的處理器2，並安裝有一種持久的儲存媒體4，可以為計算機讀取，以及一圖形化使用者介面6。儲存媒體4是一種計算機程式，允許設計者設計或修正一積體電路元件佈局或其他半導體元件的佈局。積體電路元件佈局包括複數個獨立元件層級，彼此之間具有高低順序。
    儲存媒體4的軟體可以是商業化的積體電路佈局編輯器，但其他合適的電子設計自動化系統工具軟體亦包含於本發明之範疇內。儲存媒體4以計算機程式碼加以編程，當該計算機程式碼被處理器2所執行時，處理器2連同一提供使用者系統介面的圖形化使用者介面6執行一設計方法，設計一積體電路元件佈局或其他半導體元件的佈局。設計方法可以是計算機輔助設計方法，透過使用者以及處理器進行電路佈局設計，例如一種軟體工具程式，允許使用者數位化形狀與圖案，以形成一積體電路(如第1圖之積體電路設計7)。進行積體電路設計中，軟體更可以直接讀取設計規則9以及一設計圖案資料庫11。
    使用者(即電路設計師)與圖形化使用者介面6互動，以透過編程後的處理器2進行至少設計10，設計檢查12，以及最終設計14。一實施例中，設計10包括設計諸如積體電路之半導體元件的佈局，即建立數位圖形的形狀，圖案，位置以及大小，以結合形成諸如積體電路之半導體元件。完成一初步的佈局後，執行設計檢查12，以檢查甚至修正初步的佈局，以產生一最終佈局14。執行設計10，設計檢查12與最終設計14的步驟時，可以直接讀取設計規則9以及設計圖樣資料庫11。設計10可包括在完成設計積體電路7之前，先讀取設計規則9以及設計圖樣資料庫11。
    以下將揭露讀取設計規則，以及自資料庫讀取與匯入設計圖樣11至圖形化使用者介面上的半導體元件佈局的細節。
    最終設計14產生佈局16，佈局16代表一積體電路元件佈局或其他半導體元件的佈局，具有複數個元件層級。佈局16為一電子檔案，可以是任意適合的檔案格式，包括產生一組複數個光罩，分別用來形成一獨立的元件層。當該些元件層交疊時，形成一積體電路元件或其他半導體元件。佈局16被提供至光罩工廠18，以製造光罩。光罩更進一步被提供至製程工廠20，根據該些光罩進行一連串的製程操作，以形成積體電路元件或其他半導體元件。
    再次參照第1圖，設計規則9可以以文字格式儲存於規則檔案，伴隨著佈局一起顯示於圖形化使用者介面。圖樣資料庫(具有設計圖樣之資料庫11)可包括GDSII(Graphic Database System II)或OASIS(Open Artwork Interchange Standard)格式，或是其他適合用於電路佈局資料交換的工業標準。設計規則9的規則檔案以及設計圖樣資料庫11可以於進行設計時直接讀取。設計規則9的規則檔案以及設計圖樣資料庫11可以透過點擊顯示於圖形化使用者介面上現有的佈局圖樣，從顯示於圖形化使用者介面的設計規則列表中選取設計規則，以及輸入指令或其他方式加以讀取。設計規則9的規則檔案以及設計圖樣資料庫11可以直接被讀取並載入電子設計自動化系統軟體內，允許使用者將形狀及圖樣數位化以形成積體電路佈局，例如當電子設計自動化系統軟體為積體電路佈局編輯器時。設計規則以及圖樣資料庫亦可以被讀取並載入其他適合的電子設計自動化系統軟體。電子設計自動化系統軟體可定義為計算機輔助的繪稿軟體，特別使用於積體電路佈局的作業。各種由計算機輔助的繪稿軟體建立的電子設計自動化系統皆可使用於本發明。
    第2圖為本發明所揭露之實施例中的方法流程圖。於步驟30中，工廠提供一設計規則的規則檔案以及包括設計圖形的圖樣資料庫給客戶，如電路設計師。工廠可以是光罩工廠或是製程工廠。設計規則以文字格式儲存，圖樣資料庫則是以GDS或OASIS格式儲存，但以上僅為範例，實際上可以使用任何適合用於電路佈局資料交換的格式。客戶可以根據不同的處理器以及不同的電子設計自動化系統指定不同的資料庫。於步驟32，客戶載入或安裝圖樣資料庫以及規則檔案至電子設計自動化系統軟體，例如積體電路佈局編輯器或其他合適的軟體。可以使用任何足以執行計算機輔助繪稿的各種電子設計自動化系統軟體。於步驟34，客戶可透過圖形化使用者介面讀取圖樣資料庫以及規則檔案以了解設計規則並進行設計，以及顯示設計佈局。設計規則以及圖樣資料庫可以在使用積體電路佈局編輯器或其他合適的軟體時被直接讀取，以進行半導體元件的佈局。電子設計自動化系統可以包括一軟體模組，可以存取儲存媒體，包括設計規則檔案以及圖樣資料庫。
    透過易於讀取的設計圖樣資料庫以及設計規則，接著於步驟36建立設計佈局，更於步驟38透過圖樣資料庫來建立設計佈局。步驟36與38分別代表可以兩種不同的實施例。根據一實施例，電路設計師首先於步驟36建立佈局，再於佈局建立完成後於步驟40中讀取設計圖樣資料庫以及設計規則。根據另一實施例，可以於步驟38進行中隨時讀取設計圖樣資料庫以及設計規則。圖樣資料庫可以直接讀取，或是透過設計規則與圖樣資料庫的連結直接或間接的讀取。圖樣資料庫與設計規則之間的連結可以透過各種電子連接方式建立，例如單一類型格式(如規則編號)或多種類型格式，包括規則編號，規則描述，各種標籤，佈局單元名稱等等。
    於步驟40，執行一設計規則檢查。此時，可以直接讀取設計規則與圖樣資料庫，也可以對佈局做修改。重複進行一次或多次後，得到符合設計規則與圖樣資料庫的最終佈局。根據執行步驟36與步驟38後的實施例，佈局已完成並顯示於圖形化使用者介面上，而設計規則與圖樣資料庫可以直接被讀取並顯示於圖形化使用者介面上，如第3及4圖所示。
    第3圖為圖形化使用者介面6顯示設計佈局42的一部分。設計佈局42包括多種圖樣，如任意的設計圖樣44，46，48。設計圖樣44、46、48可以是各種不同的元件層級，彼此依順序堆疊。圖形化使用者介面6可以是各種適合的圖形化使用者介面，而且可以為電子設計自動化系統軟體的一部分。圖形化使用者介面6可以較佳地與電子設計自動化系統以及電子設計自動化系統軟體工具結合，以建立積體電路元件。設計圖樣44、46、48可以是各種設計圖樣，例如井區，源/汲極區，其他主動區，電晶體閘極，內連線，電容板，空間，接觸墊，穿孔以及其他各種圖樣之間的關係。設計佈局42包括各種可能出現於佈局設計中的圖樣及形狀。
    如圖式中的實施例所示，方塊50顯示一部份使用者欲參考的設計規則，一實體輸入裝置如滑鼠或鍵盤可以用於將游標定位於方塊50上，再經由一物理輸入動作，例如點擊滑鼠，即可直接讀取規則檔案52並將之顯示於圖形化使用者介面6。規則檔案52可以為表格的形式，包括各種設計規則，例如多晶矽間隔規則以及接觸墊規則。規則檔案52可以包括設計規則54中與方塊50以及文字56相關的部分。設計者可以藉由圖形化使用者介面6瀏覽規則檔案52，並選擇合適的設計規則以直接套用至設計佈局42。
    如圖式中的實施例所示之一範例情形，設計規則以及方塊50內的圖樣為兩平行的條狀多晶矽，其寬度與間隔的設計規則正被檢視。設計規則可包括圖樣的最小/最大寬度，單位區域內平行排列的數量限制，圖樣之間的間隔，穿孔及接觸墊與位於其上或其下的條狀多晶矽的對準容忍度。設計規則可涵蓋各種其他佈局的規範，例如平行線嵌排時(nesting)的最小數量。積體電路設計具有大量的設計規則，而以上所舉例的僅為一部份，作為示範之用。設計規則可由光罩工廠提供，根據該光罩工廠的光罩製造能力而定。光罩組可包括對準線，位於每個或部分元件層之上，可使用雙圖樣顯影(Double Patterning Lithography,DPL)方式製造單一圖樣層。設計規則亦包括使用雙圖樣顯影時光罩之間的容忍度及極限。規則檔案52以文字格式方式顯示，其中規則被表列並顯示於表格之中。以上僅為範例，實務上可以使用各種相關格式。於其他實施例中，規則檔案52可以與圖樣資料庫58透過連結60產生連接關係。圖樣資料庫58之細節顯示於第4圖。根據一實施例，當以游標選定方塊50而讀取設計規則54後，由於規則檔案52與圖樣資料庫58之間存在連結，圖樣資料庫中相對應的設計圖樣同時自動被讀取。
    參照第4圖，設計佈局42被顯示於圖形化使用者介面6上。第4圖顯示設計規則與圖樣資料庫如何經由使用者與圖形化使用者介面6的互動而被讀取，以及圖樣資料庫中的設計圖樣如何被複製至佈局設計42。規則檔案52所儲存的設計規則被連結至圖樣資料庫58中的圖樣(如第3圖所示)，並用於產生或修改佈局設計42。於選擇步驟62，設計規則的一部分，如第3圖中方塊50所標示的部分，被一實體輸入裝置所選擇並讀取，以直接讀取規則檔案52。規則檔案52包括佈局規則，並且連結至圖樣資料庫58。透過點擊或選擇方塊50，可以顯示與規則檔案52相關的設計規則。圖樣資料庫58包括多種設計圖樣，符合設計規則且與規則檔案52中的設計規則連結。選擇設計佈局42中所需的圖樣，使用者可以在同一圖形化使用者介面上檢視資料庫並且直接讀取並顯示規則檔案52以及圖樣資料庫58，同時保持設計佈局42的顯示。由於規則檔案52與圖樣資料庫彼此直接連結，透過點擊或選擇方塊50，圖樣資料庫58中一個或數個相關的設計圖樣將連同規則檔案52中相關的設計規則一同顯示。
    於匯入/複製步驟66，欲選取的設計圖樣68被選擇，並自圖樣資料庫58被讀取而匯入至顯示於圖形化使用者介面6的設計佈局42。於步驟70，欲選取的設計圖樣68被複製並匯入至設計佈局42。一實體輸入裝置可以用來操作，以選擇及複製欲選取的設計圖樣68至設計佈局42。欲選取的設計圖樣68可透過圖形化使用者介面的功能，被拖曳或複製貼上至指定位置。欲選取的設計圖樣68在此代表符合相關技術設計規則且經過製程驗證過的圖樣。
    於初始設計進行時，或是當初始設計完成後，都可以直接自規則檔案52讀取設計規則，以及直接讀取圖樣資料庫58並複製所需的設計圖樣68，並顯示於圖形化使用者介面上，讓使用者的操作更便利。
    以上描述揭露了本發明的概念。應可理解於相關領域具有一般知識技術之人可以根據上述內容做各種修改，而並未悖離本發明的精神與範疇。再者，所有的實例與敘述僅作為範例之用，讓閱讀之人可以更容易理解本發明，並未限制專利保護的範圍。所有在此描述之準則，情境，以及實施例，亦僅作為範例之用，等同於任何結構上或功能上相同的替代物，包括現有的或尚未被發明的。
    以上內容搭配對應的圖式可以使更容易理解，用語如『連接』除非有特別強調，否則可表示結構間直接或透過其他中介物間接的連接，可以是固定的或可移動的。
    上述內容僅為示範之用，實際的專利保護範圍請參考以下的專利請求項。
    2‧‧‧已編程的處理器
    4‧‧‧儲存媒體
    6‧‧‧圖形化使用者介面
    7‧‧‧積體電路設計
    9‧‧‧設計規則
    10‧‧‧設計
    11‧‧‧設計圖樣資料庫
    12‧‧‧設計檢查
    14‧‧‧最終設計
    16‧‧‧佈局
    18‧‧‧光罩工廠
    20‧‧‧製程工廠
    30‧‧‧步驟
    32‧‧‧步驟
    34‧‧‧步驟
    36‧‧‧步驟
    38‧‧‧步驟
    40‧‧‧步驟
    42‧‧‧設計佈局
    44‧‧‧設計圖樣
    46‧‧‧設計圖樣
    48‧‧‧設計圖樣
    50‧‧‧方塊
    52‧‧‧規則檔案
    54‧‧‧設計規則
    56‧‧‧文字
    58‧‧‧圖樣資料庫
    60‧‧‧連結
    62‧‧‧步驟
    66‧‧‧步驟
    68‧‧‧設計圖樣
    70‧‧‧步驟
    本發明所揭露之說明書內容可搭配以下圖式閱讀以使更容易理解。須注意的是圖式之部分特徵並未根據業界的實際產品比例所規劃。事實上，這些特徵的長寬比例都可以任意增減，並不影響發明的本質。本發明中相同的特徵皆以相同的標號表示。
    第1圖為本發明所揭露之實施例中的系統及方法的示意圖；第2圖為本發明所揭露之實施例中的系統及方法的流程圖；第3圖為一圖形化使用者介面，顯示一部分的設計佈局，並示意了透過與圖形化使用者介面互動，將一設計規則讀取；以及第4圖為一圖形化使用者介面，顯示一部分的設計佈局，並示意了透過與圖形化使用者介面互動，將一設計規則讀取，並自圖樣資料庫載入一設計圖樣至設計佈局。
    2‧‧‧已編程的處理器
    4‧‧‧儲存媒體
    6‧‧‧圖形化使用者介面
    7‧‧‧積體電路設計
    9‧‧‧設計規則
    10‧‧‧設計
    11‧‧‧設計圖樣資料庫
    12‧‧‧設計檢查
    14‧‧‧最終設計
    16‧‧‧佈局
    18‧‧‧光罩工廠
    20‧‧‧製程工廠
    权利要求:
    Claims (12)
    [1] 一種計算機可讀取的儲存媒體，以計算機程式碼加以編碼，當該計算機程式碼被一處理器所執行時，該處理器進行一設計方法，該設計方法包括：設計一半導體元件佈局並將該半導體元件佈局顯示於一圖形化使用者介面；當該半導體元件佈局顯示於該圖形化使用者介面時，透過與該圖形化使用者介面互動以讀取設計規則；以及透過與該圖形化使用者介面互動以讀取具有複數個設計圖樣的一資料庫，並且將至少一該等設計圖樣直接匯入該半導體元件佈局。
    [2] 如申請專利範圍第1項所述之計算機可讀取的儲存媒體，其中該等設計規則係連結至該資料庫，且其中讀取該設計規則之步驟更包括自動讀取該資料庫。
    [3] 如申請專利範圍第1項所述之計算機可讀取的儲存媒體，其中透過與該圖形化使用者介面互動以讀取具有複數個設計圖樣的一資料庫，並且將至少一該等設計圖樣直接匯入該半導體元件佈局的步驟，更包括使用至少一該等設計圖樣於設計該半導體元件佈局。
    [4] 如申請專利範圍第1項所述之計算機可讀取的儲存媒體，其中讀取該設計規則的步驟包括將該設計規則顯示於該圖形化使用者介面，且讀取該資料庫的步驟更包括：將該資料庫的該等設計圖樣顯示於該圖形化使用者介面；將一游標定位於該等設計圖樣之中的一所需設計圖樣上；以及將該所需設計圖樣與該半導體元件佈局結合。
    [5] 如申請專利範圍第1項所述之計算機可讀取的儲存媒體，其中讀取該設計規則的步驟包括使用一物理輸入裝置，控制一顯示器中該圖形化使用者介面的一游標的位置，將該游標定位於該顯示器中一設計圖樣上，並點擊該游標以選取該設計圖樣，使該設計規則顯示於該圖形化使用者介面上。
    [6] 如申請專利範圍第1項所述之計算機可讀取的儲存媒體，其中該設計之步驟，讀取該設計規則之步驟，讀取該資料庫之步驟，以及該匯入步驟皆同步進行，且該設計方法更包括執行一設計規則檢查並根據該設計規則定稿該佈局，並將定稿後的該佈局傳送至工廠。
    [7] 一種設計半導體元件的方法，該方法包括：使用電子設計自動化系統(EDA system)於一圖形化使用者介面上設計並顯示一半導體元件的佈局；當該佈局被顯示時，透過與該圖形化使用者介面互動，讀取設計規則；當該佈局被顯示時，透過與該圖形化使用者介面互動，讀取具有複數個設計圖樣的一資料庫；以及透過與該圖形化使用者介面互動，從該資料庫中選擇至少一所需設計圖樣，並透過與該圖形化使用者介面互動，將該至少一所需設計圖樣自該資料庫匯入至該佈局。
    [8] 如申請專利範圍第7項所述之設計半導體元件的方法，其中讀取該設計規則包括將一游標定位於該佈局的一部分並點擊一滑鼠，並更包括透過與該圖形化使用者介面互動，檢查該佈局是否符合該設計規則。
    [9] 如申請專利範圍第7項所述之設計半導體元件的方法，其中：讀取該設計規則之步驟，讀取該資料庫之步驟，以及匯入至少一該所需設計圖樣之步驟係發生於設計該佈局之步驟之期間；或者讀取該設計規則包括將具有複數設計規則的表格顯示於該圖形化使用者介面上，且更包括進行一設計規則檢查並將該佈局定稿。
    [10] 一種電子設計自動化(EDA)系統，包括：一處理器；一圖形化使用者介面；一儲存媒體，以計算機程式碼加以編碼，該計算機程式碼被設定為可由計算機執行，允許使用者使用該電子設計自動化系統以根據一方法設計一半導體元件的佈局，該方法包括：進行一半導體元件的一佈局設計，並將該半導體元件的該佈局顯示於一圖形化使用者介面；透過與該圖形化使用者介面互動以讀取設計規則；透過與該圖形化使用者介面互動以讀取具有複數個設計圖樣的一資料庫；以及透過與該圖形化使用者介面互動，匯入至少一該等設計圖樣至該半導體元件的該佈局。
    [11] 如申請專利範圍第10項所述之電子設計自動化系統，其中該設計規則係連結至該資料庫，且其中讀取該設計規則之步驟更包括讀取該資料庫。
    [12] 如申請專利範圍第10項所述之電子設計自動化系統，其中該方法更包括將至少一該設計規則與該半導體元件佈局的至少一圖樣做比對，且其中讀取該資料庫的步驟包括：將該資料庫顯示於該圖形化使用者介面；將一游標定位於該等設計圖樣之中一所需設計圖樣上；選擇該所需設計圖樣；以及將該所需設計圖樣與該半導體元件佈局結合。
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    法律状态:
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
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